貴金屬鋨靶材(Os)Osmium Target

鋨靶材是一種高純度、高密度的金屬靶材，主要由鋨（Os）元素組成。鋨是一種稀有、高密度的金屬元素，位于元素周期表的第76位，因其極高的密度（約為22.59 g/cm3）而聞名。鋨靶材在濺射鍍膜過程中被用作濺射源，通過高能粒子轟擊靶材表面，使靶材原子或分子從表面逸出并沉積在基材上，從而形成一層均勻的薄膜。

鋨靶材具有以下特點和優勢：

高純度：鋨靶材的純度非常高，通常可以達到99.9%以上，確保了濺射鍍膜的高質量。

高密度：鋨靶材的密度極高，使得其在濺射過程中更加穩定，不易變形或損壞。

優異的濺射性能：鋨靶材具有良好的濺射性能，可以產生均勻、致密的薄膜，適用于多種濺射鍍膜工藝。

廣泛的應用范圍：鋨靶材在電子、光伏、磁性材料等領域有著廣泛的應用。特別是在需要高密度、高純度濺射源的場合，鋨靶材具有不可替代的優勢。

然而，由于鋨元素的稀有性和高成本，鋨靶材的價格通常較高。此外，由于鋨靶材的濺射速率較低，可能需要更長的濺射時間來達到所需的薄膜厚度。

總的來說，鋨靶材是一種高質量、高密度的濺射源材料，適用于需要高純度、高密度濺射源的鍍膜工藝。雖然價格較高且濺射速率較慢，但其優異的性能和廣泛的應用范圍使得鋨靶材在濺射鍍膜領域具有重要地位。

高純貴金屬磁控濺射鍍膜鋨靶材Osmium(Os)鋨PVD鍍膜材料   

公司在上海，北京，江蘇蘇州，南京，廣東深圳，廣州，沈陽設有公司工廠與銷售，向全國廣大工業生產廠家提供方便，為廣大鍍膜廠家提供薄膜材料。

產品詳情

貴金屬鋨及其合金在石油化學工業上主要作催化劑。

在電子電器工業上，作電阻、繼電器、火花塞電極、電觸頭、熱電偶及印刷電路等。

在玻璃工業上，金屬鋨不會使熔化的玻璃污染，可作為制造光學玻璃時的容器內襯。

鋨銥合金可以作鐘表和儀器中的軸承，制造筆尖和唱針。

傳統上，鋨用來制作鋼筆尖，現在應用于生產磁控濺射鍍膜靶材。

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注：其它尺寸可根據客戶要求制作。具體尺寸請聯系銷售。

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用途：

鋨的金屬屬性決定鋨金在工業中可以用做催化劑 。合成氨或進行加氫反應時用鋨做催化劑，就可以在不太高的溫度下獲得較高的轉化率。如果在鉑里摻進一點鋨，就可做成硬度大且鋒利的鋨鉑合金手術刀。利用鋨與一定量的銥可制成鋨銥合金，比如某些高級金筆的筆尖上那顆銀白色的小圓點即鋨銥合金，鋨銥合金堅硬耐磨，可以做鐘表和重要儀器的軸承，使用年限很長。廣泛應用于軍工，航空航天，新能源，電子與半導體，平面顯示行業，建筑與汽車玻璃行業，薄膜太陽能行業，磁存儲行業，表面工程（裝飾&工具）等領域。

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