產品詳情
高純貴金屬釕（Ru）磁控濺射鍍膜沉積靶材PVD鍍膜材料蒸發顆粒
產品名稱： | 釕（Ruthenium -Ru）濺射靶材 |
牌號規格： | Ru2 |
用途備注： | 釕薄膜由于其獨特的物理、化學和催化性能，被廣泛用于電子、電氣和催化領域，例如垂直磁記錄媒介中的中間層、大規模集成電路中的銅擴散勢壘等 |
產品詳情
貴金屬釕薄膜由于其獨特的物理、化學和催化性能，被廣泛用于電子、電氣和催化領域，例如垂直磁記錄媒介中的中間層、大規模集成電路中的銅擴散勢壘等。本公司具有完善的靶材加工、質量控制和殘靶回收技術，能夠制備出滿足客戶不同需求的高品質大尺寸釕(Ru)濺射靶材。
規格尺寸 | |
形狀 | 圓形、方形 |
尺寸 | Φ10~200mm |
厚度 | 3~15mm |
純度 | 4N |
注：其它尺寸可根據客戶要求制作。 | |
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zenkaah@163.com
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