鉬鈮合金靶/MoNb濺射靶材

鉬鈮合金靶：用于觸摸屏的防腐層

英文名稱：Molybdenum Niobium Sputtering Targets，

         MoNb Target，MoAlloy Purity 99.9%

鉬鈮（MoNb）在觸摸板中用作ITO傳感器的特別耐腐蝕的布線。您可以信賴我們的MoNb濺射靶的質量。因為我們是濺射靶的唯一制造商，我們自己在生產過程的每個階段，從最純凈的金屬粉末到成品濺射靶。在我們在中國有自己的粘合車間，我們為您準備好MoNb濺射靶材。我們提供所有常見尺寸的 MoNb平面靶材和旋轉鍍膜膜靶材。

在PVD過程中，一切都必須完美地融合在一起。只有完全協調所有工藝參數，才能創建精確滿足您要求的涂層。在我們的PVD應用實驗室中，我們在近乎真實的條件下進行濺射。在這里，我們的開發團隊根據您的規格創建涂層并進行深入分析。通過與您和各種開發機構的合作，我們可以最大限度地縮短開發新涂層材料所需的上市時間。我們使用PVD，CVD，APS和VPS涂層工藝在內部涂覆許多產品，如半導體基板和X射線靶。

公司憑借其最熱門的觸摸屏面板（TSP）應用新型濺射合金，將創新推向了一個新的高度。彎曲和靈活的觸摸屏是最新的高清電視，智能手機，平板電腦和移動設備技術。觸摸屏使用Aetoes的鉬鈮（MoNb）靶來濺射薄膜，用于這些器件中的阻擋層，覆蓋層和導電層。

MoNb合金可實現更高的濺射速率，更高質量的薄膜，更少的缺陷和世界一流的耐腐蝕性。單件靶材的生產是Aetoes的獨特優勢。另一個關鍵優勢是與熱等靜壓（HIP）靶材相比，擠出靶材中的相對密度更高。首屈一指的是我們一流的擠出工藝，可生產各種材料，形狀，尺寸和長度。

當為TFT-LTPS和內嵌式觸摸板形成柵極和觸摸傳感器層時，應用我們的鉬鎢（MoW）平面靶。我們根據客戶要求為單件長度的靶材提供不同的成分。由MoW靶制備的薄膜具有優異的濕法和干法蝕刻特性。

所有的顆粒都是相同的材料，所以在濺射過程中不會發生速率不均。在整個濺射面上的無論是薄膜密度還是鈮含量都是均勻的。鈮含量的標準偏差小于1%（按重量計算）。

最新的鉬基合金產品系列展示了該公司能夠定制合金的電氣性能，耐腐蝕性和蝕刻特性，從而在TSP應用中實現更高的可靠性。這些合金具有大尺寸功能，旋轉靶材長達4100mm，平面靶材高達第5代，以及分段（或平鋪）靶材。上海振卡新材料公司成功的在全國具有工廠及銷售中心，在北京，上海，江蘇南京，蘇州，福建，廣東深圳，廣州等地設有團隊服務人員，公司生產的濺射靶材質量第一，服務優先的給到客戶。

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